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產(chǎn)品中心

Product Center

當前位置:首頁產(chǎn)品中心材料樣品處理等離子清洗機KT-S2DQXplasma離子清洗機射頻電源

plasma離子清洗機射頻電源

產(chǎn)品簡介

plasma離子清洗機射頻電源,不同氣體的等離子體具有不同的化學性能,如氧氣的等離子體具有很高的氧化性,能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體,從而達到清洗的效果。

產(chǎn)品型號:KT-S2DQX
更新時間:2024-03-29
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問量:1226
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品牌鄭科探產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域綜合

plasma離子清洗機射頻電源,

等離子體清洗的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的"活化作用"達到去除物體表面污漬的目的。等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。等離子體清洗技術(shù)的最大特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,可實現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。



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plasma離子清洗機射頻電源

供電電源

AC220V(AC110V可選)

工作電流

整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵)

射頻電源功率

150W

射頻頻率

13.56MHz

頻率偏移量

<0.2MHz

特性阻抗

50歐姆,手動匹配

耦合方式

電容耦合

真空度

≤50Pa

腔體材質(zhì)

高純石英

腔體容積

2L(內(nèi)徑110MMX深度220MM)

觀察窗內(nèi)徑

Φ50

氣體流量

0—50ml/min(其他量程可選)

過程控制

過程手動控制

清洗時間

手動開關(guān)

開蓋方式

鉸鏈側(cè)開式法蘭

外形尺寸

450x450x360mm

重量

23Kg

真空室溫度

小于65°C

冷卻方式

強制風冷

標配

KF16真空管1米,kf16卡箍2個,不銹鋼網(wǎng)匣1個,電源線一根,說明書一本。










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